光刻工藝過(guò)濾

光刻膠是微電子行業(yè)的工藝流程中設(shè)計(jì)到微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一。例如集成電路的生產(chǎn)中就使用了光刻膠，印刷工業(yè)也是光刻膠的另一重要應(yīng)用領(lǐng)域，同時(shí)還有模擬半導(dǎo)體、發(fā)光二極管、太陽(yáng)能光伏、生物芯片、光電子器件/光子器件等領(lǐng)域。光刻膠的生產(chǎn)使用技術(shù)復(fù)雜，品種較多，衡量標(biāo)準(zhǔn)也很多，光刻膠的比重是衡量光刻膠密度的重要指標(biāo)，較大的比重意味著光刻膠中固體的含量更多，粘滯性越高、流動(dòng)性更差。越小的粘滯性就越有均勻的光刻膠厚度。

光刻膠生產(chǎn)有著嚴(yán)格的潔凈度要求，通濾科技結(jié)合產(chǎn)品過(guò)濾實(shí)際，各種污染物，金屬離子的析出要求，制定了這類特殊產(chǎn)品的過(guò)濾解決方案，確保了產(chǎn)品的質(zhì)量。

電子化學(xué)品過(guò)濾

電子化學(xué)品又稱電子化工材料。即電子元器件、印刷線路板、工業(yè)及消費(fèi)類整機(jī)生產(chǎn)和包裝用各種化學(xué)品及材料。主要有基板、光致抗蝕劑、電鍍化學(xué)品、封裝材料、高純?cè)噭?、特種氣體、溶劑、清洗前摻雜劑、焊劑掩模、酸及腐蝕劑、電子專用膠黏劑及輔助材料等大類。

高品質(zhì)電子化學(xué)品是保證半導(dǎo)體、液晶顯示、太陽(yáng)能行業(yè)產(chǎn)品的優(yōu)質(zhì)品質(zhì)的重要產(chǎn)品之一，因此電子化學(xué)品對(duì)其生產(chǎn)過(guò)程中的顆粒以及金屬離子的控制有著非?？量痰囊?。

通濾科技為您制定化學(xué)品過(guò)濾系列濾芯的高效率、低析出的特點(diǎn)能夠滿足多種苛刻條件的化學(xué)品過(guò)濾，保證化學(xué)品的高品質(zhì)。

FPD濕制程過(guò)濾

FPD濕制程主要是針對(duì)平板液晶顯示、半導(dǎo)體、觸摸屏、五金電鍍、太陽(yáng)能、PCB（印制電路板）、LCD（液晶顯示器）、LED（發(fā)光二極管）等技術(shù)領(lǐng)域的工藝

電子行業(yè)中多種復(fù)雜的工藝和領(lǐng)域都有涉及FPD濕制程工藝，濕法設(shè)備幾乎占據(jù)工藝的30%以上，所以在工藝過(guò)程中，清洗、顯影、刻蝕、剝離都是有嚴(yán)格要求的。比如在PCB的濕制程中，通常使用醋酸、硝酸等混合酸液進(jìn)行蝕刻工藝處理。蝕刻液的潔凈度會(huì)直接影響到PCB**終成品的性能和效果，因此濕制程中各種蝕刻液，剝離液，甚至是各種化學(xué)品、化學(xué)藥液等用品的潔凈度是非常重要的，這些溶液的過(guò)濾就顯得非常重要。

廠務(wù)系統(tǒng)過(guò)濾

半導(dǎo)體制造等過(guò)程中，廠務(wù)系統(tǒng)要為FAB的生產(chǎn)制造大批量，長(zhǎng)時(shí)間不間斷的供應(yīng)用潔凈的工藝氣體，超純水，超凈電子化學(xué)品等。

廠務(wù)系統(tǒng)要為各種工藝流程提供支持應(yīng)援工作，主要包括一般氣體和特殊氣體的供應(yīng)、超純水供應(yīng)、中央化學(xué)品的供應(yīng)、潔凈室的濕度空氣潔凈度的維持、廢水和廢氣的處理、冷卻水的供應(yīng)等。所以對(duì)過(guò)濾的穩(wěn)定性也有很高的要求。

過(guò)濾目的:

    去除藥液、水中的顆粒、凝膠物。

過(guò)濾要求：

    1流量大,機(jī)械強(qiáng)度高,壽命長(zhǎng);

    2過(guò)濾效果好。

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